LPMS CVD 05紧凑型侧式真空气相沉积设备

真空气相沉积设备是一种用于电子产品防水保护的镀膜设备。工作时把含有构成薄膜元素的化合物（长链性高分子材料，一般为派瑞林Parylene）、单质气体经过升华、热解后进入放置产品的真空反应室，借助空间气相化学反应, 在产品表面上沉积生成0.1-100um的厚度均匀，无应力、优异的电绝缘性和防护性、防潮、防霉、防腐、防盐雾的薄膜涂层。

广泛应用于：航空航天、电路板、LED 、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械、珍贵文物等领域产品的防水封装与保护工艺中。

l 直径0.5米不锈钢真空反应罐，坚固耐用，镀膜速度快。

l 机台一体式设计，结构紧凑，占地小。

l 真空管路采用不锈钢连节，方便维护及保养。

l 侧开式门设计便于取放产品与腔体清洁等维护作业。

l 反应罐内置转盘机构使产品在镀膜过程中匀速旋转，镀层更均匀。

l 使用数位LED真空计显示工作状况时的真空度。

l 操作简易，可依实际需求变换自动 /手动操作模式。

l 红外线加热圈，加温速度快。

l 采用高精度温控装置多段控温，温控精确。

l 定时加热、超温报警和自动停止加热等保护功能

l 自诊功能和各种故障报警。

l 选配远程控制和手机APP功能。